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  1. 概要 ASML Holding N.V. は、オランダ・フェルドホーフェン（ Veldhoven ）に本社を置く半導体製造装置メーカーで、特に フォトリソグラフィ（露光）装置 の開発・製造で世界を独占的にリードしている企業です。 1984 年にフィリップス（ Philips ）と ASM International の合弁会社として設立され、半導体製造工程における最も微細な回路パターン形成に欠かせない露光技術を進化させてきました。 ASML は現在、 EUV （ Extreme Ultraviolet ）露光装置 という、波長 13.5nm の極端紫外線を使った次世代リソグラフィ装置を唯一量産供給できる企業であり、この技術がなければ最先端の 3nm ・ 2nm 世代の半導体は作れません。 2. 歴史と成長 1984 年 ： ASM International と Philips が合弁で ASML を設立。初期は露光装置市場の後発組で、キヤノンやニコンが強い時代でした。 1990 年代 ：露光装置の精度や量産性で競争力を強化。縮小投影方式のステッパー技術で成長。 2000 年代 ：液浸露光技術（ Immersion Lithography ）を開発。水を介在させることで解像度を向上し、 45nm 世代以降の微細化に対応。 2010 年代 ： EUV 技術の実用化に注力。多額の研究開発費と長期的な投資により、競合が撤退する中で唯一の EUV 供給企業となる。 2020 年代 ： EUV の次の世代として「 High-NA （高開口数） EUV 」を開発中。 2nm 以下のプロセス実現に不可欠とされる。 3. 主力製品と技術 ASML の主力製品は、大きく分けて以下の 2 種類です。 (1) DUV （ Deep Ultraviolet ）露光装置 波長 193nm のアルゴンフッ化物（ ArF ）レーザーを使用。多くの量産半導体工場で現在も主力として稼働しています。液浸方式の NXT シリーズ などがあります。 (2) EUV （ Extreme Ultraviolet ）露光装置 波長 13.5nm の光を用い、 1nm 台のパターン形成を可能にします。...

  ニコン（ Nikon Corporation ）   ニコンは、日本を代表する精密光学機器メーカーであり、「光を極め、光で拓く」を理念に掲げて発展してきた企業である。主な事業としては、 デジタルカメラ事業、半導体露光装置（ステッパー）事業、計測機器事業、医療向け光学機器事業、産業用ロボティクス・加工領域 など、多岐にわたる光技術・精密計測技術を活用した分野を手がけている。創業は 1917 年であり、当初は光学ガラスや軍需光学製品の開発を目的として複数の企業が統合する形でスタートした。戦前・戦中には軍用測距儀や潜望鏡の製造を行い、戦後は双眼鏡やカメラといった民生品へとシフトしていく。 ニコンが世界的に名声を得る大きな転機となったのは、 1959 年に発売された ** 「ニコン F 」 ** である。この一眼レフカメラは、堅牢性・拡張性・操作性に優れ、多くの報道写真家に愛用された。特にベトナム戦争時の従軍カメラマンによる使用で世界中にその名が広まり、 “Nikon” はプロフェッショナルカメラの代名詞となった。以降、ニコンは F マウントというレンズ互換規格を 60 年以上維持し続け、写真文化や映像表現の発展に重要な役割を果たした。 デジタル時代に入ってからは、 ニコン D シリーズ （特に D1 、 D3 、 D850 など）がプロ市場で確固たる地位を築き、スポーツ報道やスタジオ撮影などで多大な評価を得た。しかし近年は、カメラ市場自体がスマートフォンの普及で縮小し、ニコンの事業構造も大きな転換期にある。特にミラーレス化の遅れは課題となったが、 2018 年に投入した Z マウントシステム （ Z6 、 Z7 に始まり、 Z9 、 Z8 、 Zf 等へ発展）によって再び高い評価を得ており、動画性能や AF 技術、レンズ設計の自由度などで市場競争力を回復しつつある。 ニコンの真の強みは「光学と精密制御を核にした技術体系」である。カメラのイメージが強いが、実は企業収益の柱は ** 精密機器事業（特に半導体露光装置） ** であり、世界の半導体メーカーに向けて最先端の露光機を供給してきた。しかし先端露光では ASML （オランダ）が EUV 技術で圧倒的シェアを持ち、ニコンは中世代露光・液晶パネル向け露光装置などに事業軸を移している。...